Die MeCoSput ist eine Sputterquelle bei der aus einem DC Glow Plasma bei Atmosphärendruck Ionen auf einen Metalldraht beschleunigt werden. Die Ionen tragen Metallatome vom zentralen Target-Draht ab, welche sich durch einen Prozessgasstrom aus Helium und Argon auf dem Werkstück abscheiden und dadurch eine Schicht bilden. Die MeCoSput bietet durch ihre kompakte Bauform ein handliches und sehr flexibles Instrument, um diese neue Technologie leicht in viele Prozesse zu integrieren. Durch eine Wasserkühlung wird die Wärme aus der Quelle abgeführt und stellt so eine niedrige Anlagentemperatur sicher, auch wenn mehrere Quellen gleichzeitig betrieben werden.

Flexibel und Innovativ

Die MeCoSput ist eine vielseitige Kompaktanlage, welche für etliche Sputteranwendungen eingesetzt werden kann.
Sie kann statisch oder beweglich in eine Druckanlage integriert werden oder aber aus der Hand geführt werden. Durch eine Strukturweite im Sub-Millimeterbereich von (700µm) und hohe realisierbare Abstände zum Substrat eröffnen sich viele Möglichkeiten:

  • Metallisierung
  • Kunststoffmetallisierung
  • 3D-Druck
  • Leiterbahndruck
  • REM Probenvorbereitung
  • Nano-Partikelquelle
  • ...

 

Ressourcenschonend 

Durch fortwährende Optimierung der Quelle ist es gelungen, den Ressourcenverbrauch für Prozesse mit der MeCoSput zu reduzieren und gleichzeitig die Abscheidungsrate zu verbessern.
Durch den geschlossenen Kühlkreislauf werden außerdem keine weiteren Ressourcen, wie Wasser verschwendet.

  • Abscheidung über 1 mg/h
  • Rate bis zu 500 nm/s
  • geringe thermische Belastung der Substrate (< 1W)

Kontaktieren Sie uns bitte für nähere technische Details oder ein individuell zugeschnittenes Angebot.